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當前位置:首頁產品中心薄膜制備設備等離子鍍膜設備VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

雙靶磁控濺射儀
產品簡介:

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監(jiān)測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。

產品型號:VTC-600-2HD

更新時間:2024-11-05

廠商性質:生產廠家

訪問量:1600

服務熱線

0755-26959531

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產品介紹

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)

濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,

制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監(jiān)測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或

多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和PTFE薄膜等。而且設備

體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。

性能指標和基本配置
主要參數

● 輸入電源:220V AC 50/60Hz
● 功率:<2KW(包含真空泵)
● 濺射電源:安裝有兩個濺射電源:
● 直流(DC)電源:500W,針對于制作金屬膜
● 射頻(RF)電源:300W,可制作氧化物和金屬膜
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主要特點

● 體積小,操作簡便
● 真空腔室、真空泵組整機模塊化設計,控制電源為分體式設計,可根據用戶實際需要調整購買需求。
● 可根據用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍,購買前請聯(lián)系我公司銷售。

磁控濺射頭

● 儀器中安裝有2個2英寸磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層(圖一)
● 一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材
● 另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導電性靶材
● 靶材尺寸要求:直徑為50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)
● 可以單獨訂購RF連接線作為備用(圖二)
● 設備包含一臺水冷機,用于靶頭冷卻(圖三)
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載樣臺

● 載樣臺尺寸:φ140mm(最大可放置4"的基底)
● 載樣臺可以旋轉,其速度為:1 - 20 rpm (可調)
● 載樣臺最高可加熱溫度為500℃
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真空腔體

● 真空腔體:φ300 mm  x 300 mm H,采用不銹鋼制作
● 觀察窗口:φ100 mm
● 腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易

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氣體流量控制器

● 儀器內部安裝有2個質量流量計,量程為:0-100sccm
● 氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作
● 此系統(tǒng)運行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設備中不包含)
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真空系統(tǒng)

● 配有一套GZK-103D分子泵系統(tǒng)(德國制作)
● 標準5E-5mbar 極限7.4E-6mbar(僅供參考,詳情請點擊)
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薄膜測厚儀(可選)

● 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?
● LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數據
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產品尺寸

L 1300mm× W 660mm× H 1200mm

凈重160 kg
使用提示

● 此設備為DIY設備,參數變化較大購買前請務必電話仔細溝通
● 為了得到較好的薄膜質量,必須通入高純氣體(建議> 5N)
● 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
● 要達到薄膜與基底良好結合,請在濺射前清潔基材表面
● 超聲波清洗(詳細參數點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥(4)真空烘箱除去水分。
● 等離子清洗(詳細參數點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。
● 制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應用于改善金屬和合金的附著力
image.png

警告

● 注意:產品內部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。
● 氣瓶上應安裝減壓閥(設備標配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
● 濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶

認證

CE認證

保修期一年保修,終身技術支持。
特別提示:
1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內。
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內
點擊查看售后服務承諾書。




VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

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